Компания-резидент особой экономической зоны «Технополис Москва» сделала важный шаг в развитии отечественной микроэлектроники, создав первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров. Это достижение позволяет России войти в ограниченный круг стран, обладающих возможностью производить такое ключевое оборудование для микросхем, сообщается в телеграм-канале мэра Москвы.
Разработка фотолитографа была осуществлена в сотрудничестве с белорусским заводом, который имеет богатый опыт в этой области. Особенностью нового устройства является использование твердотельного лазера вместо традиционной ртутной лампы, что делает его более мощным, эффективным и долговечным.
Такой подход также обеспечивает более узкий спектр излучения, что является важным для точности процессов фотолитографии. Уже сейчас новинка привлекла внимание клиентов — на фотолитограф имеется первый заказ, и в настоящее время идет работа по адаптации технологических процессов под нужды конечного потребителя. Более того, в компании анонсировали планы по разработке фотолитографа с разрешением 130 нанометров, который должен быть готов к 2026 году.
