В Научно-исследовательском институте точного машиностроения (НИИТМ, часть группы «Элемент»), разработан прототип первой в России установки для плазмохимического осаждения (ПХО) на кремниевых пластинах диаметром 300 мм. Это событие знаменует собой важный шаг в производстве микросхем, поскольку до недавнего времени такие машины приходилось закупать за границей, пишут Известия.
ПХО является одним из ключевых процессов в микроэлектронике, и отечественные установки помогут укрепить технологический суверенитет России. Кроме того, российские производители могут стать альтернативными поставщиками оборудования для стран, заинтересованных в развитии своей микроэлектроники.
Как рассказал начальник отдела перспективных разработок НИИТМ Георгий Ерицян, новый комплекс предназначен для обработки кремниевых пластин диаметром 300 мм, при этом он может быть адаптирован для работы с пластинами диаметром 200 мм.
Это позволит тестировать установку на производственных мощностях, использующих существующие 200-миллиметровые технологические процессы, и своевременно подготовиться к переходу на 300-миллиметровые пластины.
Ерицян также отметил, что разработчикам удалось локализовать производство ключевых компонентов в короткие сроки, а базовые технологические процессы, созданные в рамках проекта, по качеству не уступают импортным аналогам.
